4.4.1.1. SiO2 marása 4.4.1.2. Si és különböző fémek marása 4.4.1.3. III -V. Félvezetők 4.4.2. Különleges ionsugaras eljárások 4.4.3. ECR marás 4.4.4. MERIE 4.5. Plazma tisztítás
4.4.1.2. Si és különböző fémek marása
4.4.1.3. III -V. Félvezetők
4.4.2. Különleges ionsugaras eljárások
4.4.3. ECR marás
4.4.4. MERIE
4.5. Plazma tisztítás